產品介紹
- 工業純水系統(醫療器材、化妝品、清洗、食品......等)
- 製藥純水系統(中藥廠、西藥廠、生技.......等)
- 電透析(EDI)超純水系統(電子廠、半導體、化學......等)
- 實驗室超純水系統
- 濃縮分離
- 貨櫃型 純水系統
- UF中水回收
- 逆滲透RO單機
- MPLC製備液相色譜儀
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逆滲透和 EDI 技術，屬當今世界上最先進的脫鹽技術。
在半導體、電子、醫藥等行業水質淨化、清洗、水質純化以及廢水處理有著廣泛的應用。
例如，在電子工業方面，可以作為面板、晶圓半導體、清洗用超純水的處理設備，與其它技術諸如電透析、離子交換和蒸餾相比，具有能耗低、脫鹽率高、除菌能力強和操作簡單、維護方便的特點，大大節省了運行、維修成本。
而且沒有廢水排放。反滲透和 EDI 技術，在當今已涉足了生產的眾多領域。
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半導體超純水系統
造水能力 :250L/HR
導電度： ≧18MΩ-cm
Particles 0.05 μm ≦10 count/ml
金屬離子：K、Pb、Ag、Ln、Mg、Ca、Al、Ni、Na、Cr、Fe、Co、Ga、Zn ≦0.05ppb -
化學廠用電透析(EDI)超純水系統
型式 :LST-2000UPW
造水能力 : >=2000L/HR,出水水質 ≧ 18.2 MΩ-cm
去除率 : 96%
純水回收率 : 50%
前置精密過濾器:PP 20” 5UM-7支
前置自動石英砂碳過濾器:100L -1支
前置自動逆洗活性碳過濾器:100L -1支
前置自動逆洗軟水樹脂過濾器:100L-1支
0.2UM過濾器 20”-6支
AIR VENT(PES) -2個
超純水樹脂DI：150L*1
TOC-UV 185or254nm 含變壓器
0.2m預過濾器 10”
EDI 模組:2000L/HR 光感應流量計
RO膜:TFC-8040 x2PCS
泵浦 : 原水加壓汞-2台
純水加壓汞1台
循環加壓泵-2台
全程控制操作盤 :
RO標準操作控制
出水導電度計us
可自動造水,可切換定時循環、手動沖洗
RO主機鋼架 : SUS-304 -
高分子材料 EDI 超純水系統
A. 造水能力 :250L/HR,出水水質>=18MΩ-cm
B. 去除率 : 96%
C. 純水回收率 : 50%
D. 前置精密過濾器:PP 20” 5UM
E. 前置自動逆洗活性碳過濾器
F. 前置自動逆洗軟水樹脂過濾器
G. 0.2UM過濾器 20”
H. AIR VENT(PES)
I. 超純水樹脂DI
J. EDI -
電子廠用超純水系統
300L/HR,出水水質>=10MΩ-cm
粒狀物數 ≦10CT/0.5um
總菌落數 ≦10CFU/ml
TOC ≦ 5 ppb
去除率 : 96%
純水回收率 : 50% -
電子廠用EDI超純水系統
純水使用量 1000L/hr
導電度 18MΩ -cm@at25℃
總菌落數 <=10CFU/1CC D.
TOC<30ppb
去除率 : 96%
純水回收率 : 50% -
電子廠用EDI超純水系統
RO+EDI製水量 3000L/hr
pH 7.7
水阻值(Resistivity，at 25) 18MΩ -cm@at25℃
微粒子Particles＞0.1μm pcs/ml ＜10
生菌數(Bacteria) cfu/l ＜10
總有機碳(TOC) ppb ＜5 -
電子廠用超純水系統
A. 純水使用量 250L/hr
B. 導電度 >10MΩ -cm@at25℃
C. 總菌落數 <=100CFU/1CC
D. 去除率 : 96%
E. 純水回收率 : 50% -
電子廠用RO+UF超純水系統
15M3/hr
阻抗值 ≥17.5MΩ-cm(25˚C)
Particles(≥ 0.2μm) ≤ 10 pcs/ml
TOC ≤ 88 ppb
Na ≤ 3 ppb
Cr ≤ 3 ppb
Fe ≤ 3 ppb
Ca ≤ 3 ppb
F ≤ 3 ppb
Cl ≤ 3 ppb)
Temperature 23 ±2˚C
Pressure 3.5 ± 0.5 Kg/cm² -
電子廠用TwoPass RO+EDI 超純水系統
●PASS ONE逆滲透RO系統
A.型式:RO-2.4T/HR
B.造水能力:2400L/HR*25。C
C.去除率:96%以上
D.純水回收:60%
●PASS TWO逆滲透RO系統
A.型式:RO-2T/HR
B.造水能力:2000L/HR*25˙C
C.去除率:
D.純水回收:85%
